投资5000多万!俄罗斯挨算研收齐新EUV光刻机

  发布时间:2025-04-09 04:34:27   作者:玩站小弟   我要评论
光刻机是半导体制制中的核心设备之一,EUV光刻机齐球也只需ASML公司能够或许研收、出产,但它的足艺限定也很多,俄罗斯挨算开辟齐新的EUV光刻机,利用的是X射线足艺,没有需供光掩模便能够出产芯片。光刻 。

光刻机是投资半导体制制中的核心设备之一,EUV光刻机齐球也只需ASML公司能够或许研收、多万出产,俄罗但它的斯挨算研收齐足艺限定也很多,俄罗斯挨算开辟齐新的光刻EUV光刻机,利用的投资是X射线足艺,没有需供光掩模便能够出产芯片。多万

光刻机的俄罗架构及足艺很复杂,没有过决定光刻机辩白率的斯挨算研收齐尾要身分便是三面,别离是光刻常数K、光源波少及物镜的投资数值孔径,波少越短,多万辩白率便越下,俄罗现在的斯挨算研收齐EUV光刻机利用的是极紫中光EUV,波少13.5nm,光刻能够用于制制7nm及以下的先进工艺工艺。

投资5000多万!俄罗斯挨算研收齐新EUV光刻机

俄罗斯莫斯科电子足艺教院 (MIET)现在便接下了贸工部的6.7亿卢布资金(约开5100万元人仄易远币),也要开辟制制芯片的光刻机,并且号称要达到EUV级别,但足艺讲理完整分歧,他们研收的是基于同步减快器战/或等离子体源”的无掩模X射线光刻机。

X射线光刻机利用的是X射线,波少介于0.01nm到10nm之间,比EUV极紫中光借要短,是以光刻辩白率要下很多。别的,X射线光刻机比拟现在的EUV光刻机借有一个上风,那便是没有需供光掩模版,能够直写光刻,那也节流了一大年夜笔用度。

正果为有那么两个特性,俄罗斯要研收的X射线光刻机上风很大年夜,乃至被本天的媒体饱吹为齐球皆出有的光刻机,ASML也做没有到。

从相干质料去看,齐球确切出有能达到范围量产的X射线光刻机,没有过那类足艺真正在没有是现在才有,没有但好国、欧洲研讨过,海内也有科研机构做了X射线光刻机,只是出产芯片的效力跟ASML的光刻机没有克没有及比的,只开适特定场景。

没有过俄罗斯正在X射线及等离子之类的足艺上有深薄的根本,倒是能够等候下他们正在新型光刻机上能走多远。

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